Pó de diamante sintético policristalino micronizado SND-MPL – Para polimento e lapidação sem riscos de vidro óptico, gemas e wafers semicondutores.

O SND-PL é um pó de diamante sintético micronizado, semelhante a um policristalino, projetado para polimento de precisão sem riscos em vidro óptico, gemas e wafers semicondutores. Fabricado por meio de um processo proprietário de passivação química e desativação de bordas, o SND-PL forma microestruturas em favo de mel com múltiplas bordas que proporcionam acabamentos ultralisos (Ra ≤0,03 μm) sem riscos ou danos subsuperficiais.
Desenvolvida pela SinoDiam International, esta alternativa de diamante policristalino com excelente custo-benefício oferece o desempenho do diamante policristalino premium a um custo 30% menor, tornando-se o material de polimento preferido para fabricantes de produtos ópticos, lapidadores de gemas e fabricantes de wafers semicondutores na América do Norte, Europa e Ásia.

 

Pó de diamante sintético policristalino micronizado SND-MPL: Superabrasivo para polimento sem riscos e lapidação de alta precisão.

Introdução ao Topo

 

 


Descrição

A tecnologia SND-MPL combina a dinâmica de corte de múltiplas arestas do diamante policristalino verdadeiro com a consistência e o preço acessível do diamante monocristalino sintético. Cada partícula micrométrica passa por um processo controlado de corrosão química, formando de 5 a 8 microarestas desativadas que distribuem uniformemente a pressão de polimento e evitam sulcos profundos ou arranhões na superfície.

Essa morfologia alveolar exclusiva permite que o SND-MPL remova material de forma suave, porém eficiente, produzindo acabamentos com qualidade de espelho em componentes ópticos, cristais de relógio, janelas de safira e superfícies de wafers. Sua superfície texturizada e microrrugosa (Ra 0,2 μm) melhora a adesão em almofadas de polimento com resina ou ligantes vitrificados, reduzindo a perda de abrasivo e prolongando a vida útil da ferramenta em até 50%.

Em comparação com os pós de diamante monocristalino tradicionais, o SND-PL proporciona uma velocidade de polimento 2 a 4 vezes maior, taxa de riscos zero e rendimento de material superior, tornando-o a melhor opção para aplicações avançadas de polimento e lapidação nas indústrias de óptica, eletrônica e de luxo.


Vantagem Técnica e Engenharia

  • Estrutura de borda em favo de mel: Gravada quimicamente para formar de 5 a 8 microbordas por grão, distribuindo a carga de polimento uniformemente e eliminando arranhões profundos comuns em diamantes monocristalinos de arestas afiadas.
  • Otimização da tenacidade: O condicionamento térmico reduz a microdureza para HV 6.000–6.500, diminuindo o lascamento e melhorando o controle durante o polimento ultrafino.
  • Superfície microrrugosa: A rugosidade superficial projetada de Ra 0,2 μm garante uma adesão mais forte em sistemas de resina e vitrificados, reduzindo o desprendimento de partículas em 40%.
  • Alta pureza e consistência: Produzido com tolerância PSD estreita (±5%), garantindo acabamentos de superfície estáveis ​​em processos de polimento de grandes áreas e planarização de wafers.

Principais vantagens

  • Acabamento verdadeiramente livre de riscos: atinge Ra ≤0,03–0,05μm em lentes de vidro óptico e safira com refletividade < 0 >95% — sem necessida>
  • Eficiência 2 a 4 vezes maior: A microestrutura com múltiplas arestas acelera a taxa de remoção, preservando a integridade da superfície e reduzindo o tempo de polimento em até 70%.
  • Substituto policristalino com excelente custo-benefício: Oferece o desempenho do diamante policristalino a um custo 30% menor, ideal para aplicações de polimento óptico e eletrônico de nível intermediário.
  • Vida útil prolongada da ferramenta: A melhor aderência dos grãos abrasivos prolonga a vida útil da almofada ou do disco em 40 a 50%, reduzindo os custos operacionais em linhas de produção de alto volume.
  • Compatibilidade universal: Funciona perfeitamente com boinas de polimento com ligação resinada, ligação vitrificada e revestimento eletrostático, adaptável a sistemas de polimento manuais ou automatizados.

Aplicações principais em diversos setores

Óptica e Eletrônica

  • Polimento de Vidro Óptico: Obtém clareza espelhada (Ra ≤0,03μm) em lentes de câmeras, óptica laser, lentes AR/VR e janelas aeroespaciais, atendendo às normas ópticas EN 12150 (UE) e ANSI Z87.1 (América do Norte).
  • Lapidação de wafers semicondutores: Utilizada para o polimento da parte traseira de wafers de silício e safira, garantindo superfícies lisas e sem defeitos para a colagem e encapsulamento de chips.
  • Componentes optoeletrônicos de precisão: realiza o polimento de substratos de LED de safira, lentes de quartzo e elementos ópticos de cerâmica para as indústrias de displays e sensores.

Acabamentos de luxo e com pedras preciosas

  • Polimento de pedras preciosas: realça o brilho e a clareza de diamantes, rubis, safiras e esmeraldas, proporcionando um acabamento espelhado e sem riscos para joias de luxo.
  • Metais para Relógios e Joias: Lustra superfícies de ouro, platina e metais revestidos (caixas de relógios suíços, acessórios de joias) sem danificar as delicadas camadas de revestimento.
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Especificações técnicas

Faixa de tamanho de partículas




Especificação da propriedade

0,5–5 μm (polimento fino), 5–15 μm (lapidação/pré-polimento)
Estrutura cristalina
Semelhante a policristalino com múltiplas arestas em forma de favo de mel
Resistência (HV)
6.000–6.500
Rugosidade da superfície (Ra)

0,2 μm (texturizada)

Bond Compatibility
Resin, vitrified, electrostatic pads
Eficiência de polimento
2–4× em comparação com diamantes micrométricos padrão
Rugosidade mínima da superfície polida
≤0,03 μm (vidro óptico, wafers)

 


Perguntas frequentes

P1: Como o SND-MPL previne arranhões em comparação com os diamantes micronizados tradicionais?
R: Seu design de múltiplas arestas em formato de favo de mel distribui a pressão uniformemente, evitando os arranhões causados ​​pelas arestas afiadas típicos dos diamantes comuns. Isso resulta em remoção uniforme de material e polimento sem arranhões em superfícies ópticas ou de gemas.

P2: O SND-MPL pode ser usado para lapidação de wafers semicondutores?
R: Sim — sua faixa de polimento fino de 0,5 a 5 μm é ideal para polimento da face posterior do wafer com Ra ≤ 0,03 μm. A microestrutura de baixa tenacidade evita microfissuras no wafer ou contaminação da superfície.

P3: Como o SND-PL se comporta em boinas de polimento com resina?
R: A excelente adesão e o baixo desprendimento de partículas o tornam perfeito para boinas de resina ou vitrificadas, aumentando a vida útil da boina em até 40% e mantendo a qualidade da superfície consistente ao longo de centenas de ciclos.

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Pó de diamante micronizado aglomerado SND-MAG

Pó de diamante sintético policristalino micronizado SND-MPL

Pó de diamante sintético micronizado profissional SND-M/PCD

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