Polvo micronizado aglomerado de diamante SND-MAG: abrasivo de tipo policristalino para el rectificado y pulido sin rayaduras de semiconductores, zafiro y materiales duros.
SND-MAG es un polvo de micras aglomeradas de diamante de última generación, diseñado para el rectificado y pulido de alta precisión y sin rayaduras de semiconductores (Si, SiC, GaAs, GaN, InP), sustratos de zafiro, cerámicas avanzadas y metales de precisión.
Desarrollado por SinoDiam International, SND-MAG integra micropulver de diamante ultrapuro con un aglutinante especializado de alta resistencia, formando una estructura aglomerada estable de tipo policristalino mediante un proceso patentado de sinterización a baja temperatura y curado del aglutinante (800–850 °C). Este diseño innovador imita el rendimiento del diamante policristalino, proporcionando altas tasas de remoción de material, un acabado superficial uniforme y una mayor vida útil de la herramienta, manteniendo un precio competitivo en comparación con los polvos de diamante policristalino tradicionales.
La forma esférica clásica (verificada por TEM) con superficies de partículas rugosas y microestructuradas garantiza:
- Contacto uniforme con obleas y sustratos duros
- Excelente suspensión en fluidos de molienda acuosos o oleosos.
- Eliminación de material controlada y sin rayaduras (Ra ≤0,05 μm)
- Capa de molienda «autorregenerable» para una eficiencia estable durante más de 10 horas.
El SND-MAG supera a los polvos de diamante monocristalinos convencionales, ofreciendo una mayor eficiencia de rectificado, una adhesión superior a resinas o uniones vitrificadas y cero rayaduras profundas, lo que lo convierte en la opción ideal para el lapeado de obleas de semiconductores, el pulido de zafiro, el acabado de lentes ópticas y el rectificado de cerámica de alta precisión.
Tecnología de vanguardia e ingeniería
- Técnica de aglomeración: La sinterización patentada + el curado del aglutinante forman aglomerados de tipo policristalino, evitando la grafitización del diamante y manteniendo la integridad estructural bajo molienda a alta presión (≤50 N/cm²).
- Control de forma y uniformidad: partículas esféricas de clase superior al 90 % (verificadas por TEM), desviación de forma ≤10 %, lo que garantiza una fuerza de pulido estable, vibraciones reducidas y defectos superficiales minimizados.
- Niveles de impurezas ultrabajos: La triple purificación (lixiviación ácida, desgasificación al vacío, separación magnética) garantiza la compatibilidad con materiales semiconductores de alta pureza, evitando la contaminación durante el pulido de obleas.
Ventajas clave
- Pulido de alta eficiencia: Su estructura aglomerada autorrenovable mantiene una eficiencia de rectificado/pulido constante durante más de 10 horas, lo que prolonga la vida útil de la herramienta en un 50 % en comparación con los polvos de diamante convencionales.
- <Acabado de superficie sin rayones: la forma esférica de clase y los bordes microcortantes brindan Ra ≤0,05 μm en obleas de zafiro, SiC y semiconductores, con índices de rayado del 0,3 %.
- Adaptabilidad a múltiples materiales: Adecuado para obleas de Si, SiC, GaAs, GaN, InP, zafiro, cerámicas avanzadas y metales de precisión, lo que reduce la necesidad de cambiar de abrasivos en líneas de producción multimateriales.
- Adhesión y unión mejoradas: Las superficies rugosas de micropartículas mejoran la retención de la unión en almohadillas de pulido de resina o vitrificadas, minimizando el desprendimiento de partículas y prolongando la vida útil de la almohadilla.
Aplicaciones principales en todos los sectores
Semiconductores y electrónica:
- Pulido y lapeado de obleas: Pule obleas de silicio, SiC, GaAs, GaN e InP con Ra ≤0,05 μm, garantizando un alto rendimiento y superficies libres de defectos.
- Recorte de bordes de obleas: Elimina microfisuras de obleas de 6 a 12 pulgadas, mejorando la fiabilidad del posterior empaquetado de chips.
Óptica y materiales duros:
- Pulido de sustrato de zafiro: Logra superficies libres de rayones y una transmitancia de luz ≥95% para LED, lentes de teléfonos inteligentes y componentes ópticos de alta gama.
- Acabado de cerámica y metal: Pule cerámicas de alúmina, aleaciones de titanio y otros componentes de precisión hasta obtener superficies con apariencia de espejo sin necesidad de pulido posterior.
Especificaciones técnicas
| Artículo técnico | Observaciones | |
|---|---|---|
| Código de producto | Identificador oficial | |
| Apariencia | Polvo gris | |
| Shape | Clase esférica | |
| Forma cristalina | Policristalino | La difracción de rayos X lo confirmó. |
| Densidad | medición del picnómetro | |
| Composición | C>99%, Mg<0.1%, B<0.005%, Otras<0.1% | ICP-MS |
| Cenizas de combustión | <0.1% | Prueba de alta temperatura |
| Rango de tamaño de partículas | 1–5μm, 5–10μm, 10–20μm | Personalizable para cada aplicación |
| Suspensibilidad | ≥95% (24h) | Medición de turbidez |
| Estabilidad térmica | TGA | |
| Resistencia a la presión de molienda | ≤50 N/cm² | Prueba de compresión |
FAQ
Q1: ¿Por qué es fundamental la forma esférica de clase para SND-MAG?
A: Las partículas esféricas de clase garantizan un contacto uniforme con los sustratos, evitan arañazos localizados por alta presión y mantienen un pulido uniforme en obleas grandes (por ejemplo, obleas de SiC o Si de 12 pulgadas).
Q2:¿Se puede utilizar AND-MAY para obleas semiconductoras de GaN?
A: Sí. Las impurezas ultrabajas (B<0,005 %, Fe<0,1 %) evitan la contaminación, logrando superficies Ra ≤0,05 μm, cumpliendo con los estándares de fabricación de chips de alta frecuencia.
Q3: ¿Cómo funciona la “capa de molienda autorrenovable”?
A: Los aglomerados exponen gradualmente superficies de diamante nuevas durante su uso, manteniendo una eficiencia de rectificado constante durante más de 10 horas y reduciendo el tiempo de inactividad por reemplazo de herramientas en un 30 %.
Q4: ¿Cuál es el método de almacenamiento recomendado para SND-MAG?
A: Almacenar en bolsas de aluminio selladas al vacío y resistentes a la humedad a 15–25 °C,<60 % de humedad relativa. Evitar el polvo y los gases corrosivos. Caducidad: 36 meses.
Polvo de diamante sintético policristalino micronizado SND-MPL
