SND-MPL Polykristallines synthetisches Mikron-Diamantpulver – Für kratzfreies Polieren und Läppen von optischem Glas, Edelsteinen und Halbleiterwafern

SND-PL ist ein polykristallines, synthetisches Mikrodiamantpulver, das speziell für das kratzfreie Präzisionspolieren von optischem Glas, Edelsteinen und Halbleiterwafern entwickelt wurde. Hergestellt durch ein firmeneigenes Verfahren zur chemischen Passivierung und Kantendeaktivierung, bildet SND-PL wabenförmige Mikrostrukturen mit mehreren Kanten, die ultra-glatte Oberflächen (Ra ≤ 0,03 μm) ohne Kratzer oder Beschädigungen der darunterliegenden Oberfläche ermöglichen.
Diese kostengünstige Alternative zu polykristallinem Diamant wurde von SinoDiam International entwickelt und bietet die Leistung von Premium-Polydiamant zu 30 % niedrigeren Kosten. Dadurch ist es das bevorzugte Poliermaterial für Hersteller optischer Gläser, Edelsteinschleifer und Halbleiterwaferhersteller in Nordamerika, Europa und Asien.

 

SND-MPL Polykristallines synthetisches Mikron-Diamantpulver: Superabrasiv für kratzfreies Polieren und hochpräzises Läppen

Einleitung

 

 


Beschreibung

SND-MPL vereint die Mehrkanten-Schneiddynamik von echtem polykristallinem Diamant mit der Konsistenz und Wirtschaftlichkeit von synthetischem Einkristalldiamant. Jedes Mikronpartikel wird einer kontrollierten chemischen Ätzung unterzogen, wodurch 5–8 deaktivierte Mikrokanten entstehen, die den Polierdruck gleichmäßig verteilen und tiefe Rillen oder Oberflächenkratzer verhindern.

Die einzigartige Wabenstruktur des SND-MPL-Verfahrens ermöglicht einen schonenden und dennoch effizienten Materialabtrag und erzeugt so spiegelglatte Oberflächen auf Optiken, Uhrengläsern, Saphirfenstern und Waferoberflächen. Die texturierte, mikroraue Oberfläche (Ra 0,2 μm) verbessert die Haftung von Polierpads für Harz- oder glasfaserverstärkte Verbindungen, reduziert den Schleifmittelverlust und verlängert die Werkzeugstandzeit um bis zu 50 %.

Im Vergleich zu herkömmlichen Einkristall-Diamantpulvern bietet SND-PL eine 2- bis 4-mal schnellere Poliergeschwindigkeit, eine Kratzfreiheit und eine überlegene Materialausbeute – was es zur ersten Wahl für anspruchsvolle Polier- und Läppanwendungen in der Optik-, Elektronik- und Luxusindustrie macht.


Technischer Vorsprung und Entwicklung

  • Wabenförmige Kantenstruktur: Chemisch geätzt, um 5–8 Mikrokanten pro Korn zu erzeugen, wodurch die Polierlast gleichmäßig verteilt und tiefe Kratzer, wie sie bei scharfkantigen monokristallinen Diamanten üblich sind, vermieden werden.
  • Optimierung der Zähigkeit: Durch thermische Konditionierung wird die Mikrohärte auf HV 6.000–6.500 gesenkt, wodurch Absplitterungen reduziert und die Kontrolle beim Ultrafeinpolieren verbessert werden.
  • Mikroraue Oberfläche: Die gezielt erzeugte Oberflächenrauheit von Ra 0,2 μm gewährleistet eine stärkere Haftung in Harz- und verglasten Systemen – und reduziert den Partikelabrieb um 40 %.
  • Hohe Reinheit und Konsistenz: Hergestellt mit enger PSD-Toleranz (±5%), was eine stabile Oberflächenbeschaffenheit bei großflächigen Polier- und Waferplanarisierungsprozessen gewährleistet.

Wichtigste Vorteile

  • Absolut kratzfreie Oberfläche: Erreicht Ra ≤0,03–0,05 μm auf optischen Glas- und Saphirlinsen mit >95 % Reflexionsgrad – kein Nachpolieren erforderlich.
  • 2–4× Höhere Effizienz: Die Mikrostruktur mit mehreren Kanten beschleunigt die Abtragsrate bei gleichzeitiger Erhaltung der Oberflächenintegrität und verkürzt die Polierzeit um bis zu 70 %.
  • Kostengünstiger polykristalliner Ersatz: Bietet die Leistung von polykristallinem Diamant zu 30 % geringeren Kosten und ist ideal für optische und elektronische Polieranwendungen im mittleren Preissegment.
  • Verlängerte Werkzeugstandzeit: Durch die verbesserte Haftung des Schleifmittels verlängert sich die Standzeit von Schleifpads oder Schleifscheiben um 40–50 %, wodurch die Betriebskosten für Produktionslinien mit hohem Durchsatz gesenkt werden.
  • Universelle Kompatibilität: Funktioniert nahtlos mit Harzbindung, vitrifizierter Bindung und elektrostatisch beschichteten Polierpads, anpassbar an manuelle oder automatisierte Poliersysteme.

Kernanwendungen in verschiedenen Branchen

Optik & Elektronik

  • Polieren von optischem Glas: Erreicht Spiegelklarheit (Ra ≤0,03μm) bei Kameraobjektiven, Laseroptiken, AR/VR-Objektiven und Fenstern für die Luft- und Raumfahrt, die den optischen Normen EN 12150 (EU) und ANSI Z87.1 (NA) entsprechen.
  • Läppen von Halbleiterwafern: Wird zum Polieren der Rückseite von Silizium- und Saphirwafern verwendet, um glatte, fehlerfreie Oberflächen für das Chip-Bonding und die Gehäusefertigung zu gewährleisten.
  • Präzisionsoptoelektronische Komponenten: Poliert Saphir-LED-Substrate, Quarzlinsen und optische Keramikelemente für die Display- und Sensorindustrie.

Edelstein- und Luxus-Finish

  • Edelsteinpolitur: Verbessert die Brillanz und Reinheit von Diamanten, Rubinen, Saphiren und Smaragden – und sorgt für kratzfreie, spiegelglatte Oberflächen bei Luxusschmuck.
  • Metalle für Uhren und Schmuck: Poliert Gold-, Platin- und beschichtete Metalloberflächen (Schweizer Uhrengehäuse, Schmuckbeschläge), ohne die empfindlichen Plattierungsschichten zu beschädigen.
  • Hochwertige, handwerkliche Politur: Wird in belgischen Diamantschleifereien und von Schweizer Luxusmarken verwendet, um einen ultrahellen Glanz zu erzielen.

Technische Spezifikationen

Eigentum Specification
Partikelgrößenbereich 0,5–5 μm (Feinpolieren), 5–15 μm (Läppen/Vorpolieren)
Kristallstruktur Polykristallin mit wabenförmigen Kanten
Zähigkeit (HV) 6,000–6,500
Oberflächenrauheit (Ra) 0,2 μm (texturiert)
Haftungsverträglichkeit Harz, verglast, elektrostatische Pads
Poliereffizienz 2–4× im Vergleich zu Standard-Mikron-Diamanten
Minimale Oberflächenrauheit nach dem Polieren ≤0,03 μm (optisches Glas, Wafer)

 


Häufig gestellte Fragen

F1: Wie verhindert SND-MPL Kratzer im Vergleich zu herkömmlichen Mikron-Diamanten?
A: Die wabenförmige Mehrkantenstruktur verteilt den Druck gleichmäßig und verhindert so die für herkömmliche Diamanten typischen scharfen Kanten. Dies führt zu gleichmäßigem Materialabtrag und kratzfreier Politur auf optischen Oberflächen oder Edelsteinen.

F2: Kann SND-MPL zum Läppen von Halbleiterwafern verwendet werden?
A: Ja – der Feinkornbereich von 0,5–5 µm ist ideal für das Polieren der Waferrückseite mit einer Rauheit (Ra) ≤ 0,03 µm. Die geringe Zähigkeit der Mikrostruktur verhindert Mikrorisse und Oberflächenverunreinigungen.

F3: Wie verhält sich SND-PL in kunstharzgebundenen Polierpads?
A: Hervorragende Haftung und geringer Partikelabrieb machen es ideal für kunstharzgebundene oder keramisch verfestigte Pads – die Standzeit des Pads wird um bis zu 40 % verlängert und eine gleichbleibende Oberflächenqualität über Hunderte von Zyklen hinweg gewährleistet.

F4: Was sind die optimalen Lagerbedingungen?
A: In verschlossenen, feuchtigkeitsdichten Behältern bei 15–28 °C und einer relativen Luftfeuchtigkeit von< 65 % lagern. Säuren, Lösungsmittel und UV-Strahlung vermeiden, um die passivierte Kantenstruktur bis zu 24 Monate lang zu erhalten.

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