Polvere di diamante sintetico policristallino SND-MPL – Per lucidatura senza graffi, lappatura di vetro ottico, gemme e wafer semiconduttori

SND-PL è una polvere di diamante sintetico micron di tipo policristallino, progettata per la lucidatura di precisione antigraffio di vetri ottici, pietre preziose e wafer semiconduttori. Prodotto attraverso un processo proprietario di passivazione chimica e disattivazione dei bordi, SND-PL forma microstrutture a nido d’ape multi-bordo che offrono finiture ultra-lisce (Ra ≤0,03 μm) senza graffi o danni sottosuperficiali.
Sviluppata da SinoDiam International, questa conveniente alternativa al diamante policristallino offre le prestazioni del diamante policristallino di prima qualità a un costo inferiore del 30%, rendendolo il materiale di lucidatura preferito dai produttori ottici, dai rifinitori di pietre preziose e dai fabbricanti di wafer semiconduttori in Nord America, Europa e Asia.

 

Polvere di diamante sintetico policristallino SND-MPL: super abrasivo per lucidatura senza graffi e lappatura ad alta precisione

Introduzione principale

 

 


Description

SND-MPL combina la dinamica di taglio multi-tagliente del vero diamante policristallino con la costanza e l’economicità del diamante monocristallino sintetico. Ogni particella micrometrica viene sottoposta a un’incisione chimica controllata, formando da 5 a 8 micro-taglienti disattivati ​​che distribuiscono uniformemente la pressione di lucidatura e prevengono la formazione di solchi profondi o graffi superficiali.

Questa esclusiva morfologia a nido d’ape consente a SND-MPL di rimuovere il materiale in modo delicato ma efficiente, producendo finiture a specchio su ottiche, cristalli di orologi, finestre in zaffiro e superfici di wafer. La sua superficie testurizzata e microruvida (Ra 0,2 μm) migliora l’adesione su tamponi di lucidatura in resina o a legante vetrificato, riducendo la perdita di grana e prolungando la durata dell’utensile fino al 50%.

Rispetto alle tradizionali polveri di diamante monocristalline, SND-PL offre una velocità di lucidatura 2–4 ​​volte superiore, zero graffi e una resa del materiale superiore, il che lo rende la scelta ideale per applicazioni avanzate di lucidatura e lappatura nei settori dell’ottica, dell’elettronica e del lusso.


Vantaggio tecnico e ingegneria

  • Struttura del bordo a nido d’ape: incisa chimicamente per formare 5-8 micro-bordi per grano, distribuendo uniformemente il carico di lucidatura ed eliminando i graffi profondi comuni nei diamanti monocristallini con bordi affilati.
  • Ottimizzazione della tenacità: il condizionamento termico riduce la microdurezza a HV 6.000–6.500, riducendo le scheggiature e migliorando il controllo durante la lucidatura ultrafine.
  • Superficie micro-ruvida: la rugosità superficiale progettata di Ra 0,2 μm garantisce una maggiore ritenzione del legame nei sistemi in resina e vetrificati, riducendo la dispersione di graniglia del 40%.
  • Elevata purezza e consistenza: prodotto con una tolleranza PSD ristretta (±5%), che garantisce finiture superficiali stabili nei processi di lucidatura su ampie superfici e di planarizzazione dei wafer.

Vantaggi principali

  • Finitura veramente antigraffio: raggiunge Ra ≤0,03–0,05μm su lenti in vetro ottico e zaffiro con riflettività >95%, senza necessità di lucidatura secondaria.
  • Efficienza 2–4 ​​volte superiore: la microstruttura multi-bordo accelera la velocità di rimozione preservando l’integrità della superficie, riducendo i tempi di lucidatura fino al 70%.
  • Sostituto policristallino conveniente: offre le prestazioni del diamante policristallino a un costo inferiore del 30%, ideale per applicazioni di lucidatura ottica ed elettronica di fascia media.
  • Maggiore durata dell’utensile: la migliore legatura della grana prolunga la durata del tampone o della ruota del 40-50%, riducendo i costi operativi per le linee di produzione ad alto volume.
  • Compatibilità universale: funziona perfettamente con i tamponi lucidanti con legante in resina, legante vetrificato e rivestimento elettrostatico, adattabili a sistemi di lucidatura manuali o automatici.

Applicazioni principali in tutti i settori

Ottica ed elettronica

  • Lucidatura del vetro ottico: consente di ottenere una nitidezza a specchio (Ra ≤0,03μm) su obiettivi per fotocamere, ottiche laser, obiettivi AR/VR e finestre aerospaziali, nel rispetto degli standard ottici EN 12150 (UE) e ANSI Z87.1 (NA).
  • Lappatura di wafer semiconduttori: utilizzata per la lucidatura del retro di wafer di silicio e zaffiro, garantendo superfici lisce e prive di difetti per l’incollaggio e il confezionamento dei chip.
  • Componenti optoelettronici di precisione: lucidatura di substrati LED in zaffiro, lenti al quarzo ed elementi ottici in ceramica per i settori dei display e dei sensori.

Finiture preziose e di lusso

  • Lucidatura delle pietre preziose: migliora la brillantezza e la purezza di diamanti, rubini, zaffiri e smeraldi, garantendo finiture a specchio antigraffio per gioielli di lusso.
  • Metalli per orologi e gioielli: lucida le superfici in oro, platino e metalli rivestiti (casse di orologi svizzeri, accessori per gioielli) senza danneggiare i delicati strati placcati.
  • Lucidatura artigianale di alta qualità: utilizzata nei laboratori di taglio dei diamanti belgi e dai marchi di lusso svizzeri per ottenere una lucentezza ultra brillante.

Specifiche tecniche

Proprietà Specifica
Intervallo di dimensioni delle particelle 0,5–5 μm (lucidatura fine), 5–15 μm (lappatura/pre-lucidatura)
Struttura cristallina Simile al policristallino con bordi a nido d’ape
Tenacità (HV) 6.000–6.500
Rugosità superficiale (Ra) 0,2 μm (testurizzata)
Compatibilità di legame Resina, vetrificati, cuscinetti elettrostatici
Efficienza di lucidatura 2–4 volte superiore rispetto ai diamanti standard da micron
Min. Polished Surface Roughness ≤0.03μm (optical glass, wafers)

 


Domande frequenti

D1: In che modo SND-MPL previene i graffi rispetto ai tradizionali diamanti micron?
R: Il suo design a nido d’ape multi-bordo distribuisce uniformemente la pressione, prevenendo le scheggiature tipiche dei diamanti tradizionali. Ciò si traduce in una rimozione uniforme del materiale e in una lucidatura senza graffi su superfici ottiche o gemme.

D2: SND-MPL può essere utilizzato per la lappatura di wafer semiconduttori?
R: Sì, il suo intervallo di finezza compreso tra 0,5 e 5 μm è ideale per la lucidatura del retro dei wafer con Ra ≤0,03 μm. La microstruttura a bassa tenacità evita microfratture nel wafer o contaminazione superficiale.

D3: Come si comporta l’SND-PL nei tamponi di lucidatura a legante resinoide?
R: L’eccellente adesione e la bassa dispersione di grana lo rendono perfetto per tamponi in resina o vetrificati, migliorandone la durata fino al 40% e mantenendo una qualità superficiale costante per centinaia di cicli.

D4: Quali sono le migliori condizioni di conservazione?
R: Conservare in contenitori sigillati e a prova di umidità a una temperatura compresa tra 15 e 28 °C, con umidità < 65%. Evitare acidi, solventi o esposizione ai raggi UV per preservare la struttura passivata del bordo fino a 24 mesi.

Polvere di micron agglomerata di diamante SND-MAG

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