Polvere di diamante sintetica professionale SND-MDW Micron – Per il taglio di wafer di silicio, filo diamantato, seghe per semiconduttori e produzione di lame per gioielli

SND-MDW è una polvere di diamante sintetica micron di qualità professionale, progettata per il taglio di wafer di silicio con filo diamantato, lame per semiconduttori e applicazioni di taglio di precisione per gioielli. Caratterizzata da grani cristallini squadrati ad alta resistenza, una distribuzione granulometrica (PSD) estremamente concentrata e un controllo della forma ultra-uniforme, offre un’efficienza di taglio ad alta velocità, una perdita di taglio minima e un’integrità superficiale eccezionale. Progettata per i settori dei semiconduttori, del fotovoltaico e della gioielleria, SND-MDW offre una maggiore durata del filo diamantato, prestazioni di taglio stabili e un costo per wafer ottimizzato, rendendola la scelta ideale per la lavorazione avanzata del silicio e il taglio di gemme.

Polvere di diamante sintetica professionale SND-MDW: progettata per il taglio di wafer di silicio con filo diamantato e seghe di precisione

 


 

Description

SND-MDW è specificamente ottimizzato per la produzione di filo diamantato, dove precisione, uniformità delle particelle e forza di adesione sono essenziali. I suoi cristalli squadrati ad alta resistenza alla compressione resistono alla tensione e all’attrito del taglio ad alta velocità dei wafer di silicio (fino a 1.500 m/min), mantenendo al contempo una perfetta adesione a substrati elettrodeposti o legati con resina.

L’intervallo PSD ristretto (5–20 μm per il filo per wafer; 10–30 μm per le seghe) garantisce che ogni particella di diamante contribuisca in modo uniforme alla forza di taglio, riducendo al minimo le vibrazioni, l’usura del filo e i difetti superficiali del wafer. Rispetto alle polveri di diamante generiche, SND-MDW prolunga la durata del filo del 40%, riduce la larghezza del taglio a ≤0,1 mm e migliora la resa del wafer fino al 10%, soddisfacendo gli standard NA/EU per i semiconduttori (SEMI M1.13).


Vantaggio tecnico e ingegneria

  • Miglioramento della resistenza dei cristalli: ogni cristallo viene sottoposto a un doppio trattamento termico (ricottura a 1.100 °C + trattamento di distensione), aumentando la resistenza alla compressione a 22–24 GPa e consentendo una resistenza superiore alla frattura durante il taglio del filo ad alta tensione.
  • Controllo PSD di precisione: la varianza PSD ≤8% garantisce un’elevata uniformità del rivestimento, essenziale per prestazioni costanti del filo diamantato nelle operazioni di taglio di wafer da 6 a 12 pollici e di affettatura di semiconduttori.
  • Uniformità della forma e finitura superficiale: il 95% delle particelle mantiene una geometria simmetrica a blocchi, con conseguente movimento di taglio stabile e superfici dei wafer fino al 25% più lisce (Ra ≤0,1μm).
  • Resistenza termica: stabile fino a 900°C, il che lo rende compatibile con i processi di galvanica metallica e di incollaggio di resina ad alta velocità utilizzati nelle linee di produzione di semiconduttori e gioielli.

Vantaggi principali

  • ⚙️ Maggiore durata del filo diamantato: raggiunge una durata utile superiore del 40% rispetto alle polveri generiche. Un singolo filo rivestito in SND-MDW può tagliare oltre 500 wafer di silicio da 8 pollici, riducendo i costi di taglio per wafer.
  • 💎 Taglio ultra-preciso: garantisce una larghezza del taglio ≤0,1 mm e una rugosità superficiale ≤0,1 μm, soddisfacendo gli standard dei wafer solari e dei semiconduttori per materiali in silicio, SiC e zaffiro.
  • 🧩 Compatibilità multi-settore: adatto per fili di nichel elettroplaccati, seghe con legante in resina e lame per taglio a cubetti di semiconduttori, garantendo un’elevata efficienza nei settori dell’elettronica, del fotovoltaico e della gioielleria.
  • 🔧 Adesione costante: i cristalli squadrati garantiscono un eccellente incastro meccanico, assicurando una forte adesione nelle matrici metalliche e resinose, riducendo la dispersione di graniglia del 30%.

Applicazioni principali in tutti i settori

Elettronica e semiconduttori

  • Taglio di wafer di silicio: utilizzato nelle seghe a filo diamantato per wafer di Si e SiC di grado semiconduttore, garantendo una larghezza di taglio uniforme e microfratture minime per la produzione di substrati di celle solari e chip.
  • Taglio e lucidatura di semiconduttori: migliora le prestazioni di taglio delle lame per semiconduttori, garantendo una finitura Ra ≤0,1μm per componenti elettronici ad alte prestazioni.

Industria fotovoltaica

  • Taglio di wafer solari: ottimizzato per linee di produzione di wafer solari ad alta efficienza, migliora la produttività e riduce le perdite di wafer, garantendo uno spessore costante dei wafer per l’assemblaggio delle celle fotovoltaiche.

Lavorazione di gioielli e pietre preziose

  • Taglio di precisione delle gemme: ideale per seghe per gioielli di piccolo diametro (0,1–0,3 mm), consente il taglio senza scheggiature di zaffiri, rubini e smeraldi.
  • Taglio di gemme di lusso: riduce la perdita di materiale del 15%, preservando la preziosa massa delle gemme e ottenendo superfici lisce come uno specchio per un’ulteriore lucidatura.

Specifiche tecniche

ProprietàSpecifica
Intervallo di dimensioni delle particelle5–20 μm (filo di silicio), 10–30 μm (seghe per gioielli e semiconduttori)
Forma di cristalloSquadrato ad alta resistenza
Resistenza alla compressione22–24 GPa
Concentrazione PSDVarianza ≤8%
Compatibilità del legameNichel elettrodeposto, legame in resina
Stabilità termicaFino a 900 °C

 

 

Domande frequenti

D1: Qual è la dimensione delle particelle di SND-MDW più adatta per il filo diamantato per wafer di silicio?
R: L’intervallo 5-20 μm è ottimizzato per il taglio ad alta precisione di semiconduttori e wafer solari, bilanciando velocità di taglio e controllo del kerf. Per wafer più spessi (> 12 pollici), si consiglia un intervallo 10-15 μm per una maggiore durata.

D2: SND-MDW può essere utilizzato nelle seghe per gioielli con legante in resina?
R: Assolutamente. La sua struttura squadrata garantisce un’eccellente ritenzione nelle matrici di resina, impedendo la fuoriuscita della grana e consentendo un taglio fluido di zaffiri, rubini e smeraldi senza scheggiature.

D3: In che modo SND-MDW migliora la durata del filo diamantato?
R: La sua resistenza alla compressione di 22-24 GPa e la PSD uniforme riducono al minimo i punti di stress interno, riducendo la rottura del filo fino al 30% durante le operazioni di taglio ad alta tensione.

D4: SND-MDW è adatto alla produzione di wafer solari?
R: Sì, è ampiamente utilizzato nel taglio dei wafer fotovoltaici grazie alla larghezza di taglio costante, alla bassa perdita di materiale e alla compatibilità con i sistemi di rivestimento dei fili ad alta velocità.

D5: Qual è la durata di conservazione e le raccomandazioni di conservazione?
R: 36 mesi in sacchetti di alluminio sottovuoto. Conservare a 15–25 °C, con umidità del< 60%. Tenere lontano da oli o solventi per preservare la purezza della superficie e le prestazioni di adesione.

 

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