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SND-MAG \u00e8 una polvere di micron agglomerata di diamante di nuova generazione, progettata per la molatura e lucidatura ad alta precisione e senza graffi di semiconduttori (Si, SiC, GaAs, GaN, InP), substrati di zaffiro, ceramiche avanzate e metalli di precisione.<\/p>\n
Sviluppato da SinoDiam International, SND-MAG integra micropolveri di diamante ultra-pure con uno speciale legante ad alta resistenza, formando una struttura agglomerata stabile di tipo policristallino tramite un processo proprietario di sinterizzazione e polimerizzazione del legante a bassa temperatura (800\u2013850 \u00b0C). Questo design innovativo imita le prestazioni del diamante policristallino, garantendo elevati tassi di asportazione del materiale, una finitura superficiale uniforme e una maggiore durata dell’utensile, pur mantenendo un rapporto qualit\u00e0-prezzo conveniente rispetto alle tradizionali polveri di diamante policristallino. <\/p>\n
La forma sferica di classe (verificata tramite TEM) con superfici delle particelle ruvide e microstrutturate garantisce:<\/p>\n
SND-MAG supera le prestazioni delle convenzionali polveri di diamante monocristalline, offrendo una maggiore efficienza di rettifica, un’adesione superiore a legami in resina o vetrificati e zero graffi profondi, il che lo rende la scelta ideale per la lappatura di wafer semiconduttori, la lucidatura dello zaffiro, la finitura di lenti ottiche e la rettifica di ceramiche ad alta precisione.<\/p>\n
Semiconduttori ed elettronica:<\/strong><\/p>\n Ottica e materiali duri:<\/strong><\/p>\n <0.1%<\/p>\n <\/p>\n D1: Perch\u00e9 la forma sferica della classe \u00e8 fondamentale per SND-MAG?<\/strong> D2: AND-MAY pu\u00f2 essere utilizzato per wafer semiconduttori GaN?<\/strong> D3: Come funziona lo \u201cstrato di macinazione autorigenerante\u201d?<\/strong> D4: Qual \u00e8 il metodo di conservazione consigliato per SND-MAG? Polvere di diamante sintetico policristallino SND-MPL<\/a><\/strong><\/p>\n Polvere di diamante sintetica professionale SND-MDW<\/a><\/strong><\/p>\n\n
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\nSpecifiche tecniche<\/strong><\/h3>\n
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\n \nArticolo tecnico<\/th>\n Stato \/ Valore<\/th>\n Osservazioni<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n \n Codice prodotto<\/td>\n AND-MAG<\/td>\n Identificatore ufficiale<\/td>\n<\/tr>\n \n Aspetto<\/td>\n Polvere grigia<\/td>\n Ispezione visiva<\/td>\n<\/tr>\n \n Forma<\/td>\n Classe: sferica<\/td>\n TEM verificato<\/td>\n<\/tr>\n \n Forma cristallina<\/td>\n Policristallino<\/td>\n Diffrazione dei raggi X confermata<\/td>\n<\/tr>\n \n Densit\u00e0<\/td>\n 3,1\u20133,4 g\/cm\u00b3<\/td>\n Misurazione con picnometro<\/td>\n<\/tr>\n \n Composizione<\/td>\n C>99%, Mg<0,1%, B<0,005%, Altri<0,1%<\/td>\n ICP-MS<\/td>\n<\/tr>\n \n Ceneri da combustione<\/td>\n < 0 ><\/td>\n Test ad alta temperatura<\/td>\n<\/tr>\n \n Intervallo granulometrico delle particelle<\/td>\n 1\u20135 \u03bcm, 5\u201310 \u03bcm, 10\u201320 \u03bcm<\/td>\n Personalizzabile in base all’applicazione<\/td>\n<\/tr>\n \n Sospensione<\/td>\n \u226595% (24 ore)<\/td>\n Misurazione della torbidit\u00e0<\/td>\n<\/tr>\n \n Stabilit\u00e0 termica<\/td>\n Fino a 850 \u00b0C<\/td>\n TGA<\/td>\n<\/tr>\n \n Resistenza alla pressione di rettifica<\/td>\n \u226450 N\/cm\u00b2<\/td>\n Prova di compressione<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n
\nFAQ <\/strong><\/h3>\n
\nA: Le particelle sferiche di classe garantiscono un contatto uniforme con i substrati, evitano graffi localizzati ad alta pressione e mantengono una lucidatura uniforme su wafer di grandi dimensioni (ad esempio, wafer SiC o Si da 12 pollici).<\/p>\n
\nR: S\u00ec. Le impurit\u00e0 estremamente basse (B <0,005%, Fe <0,1%) prevengono la contaminazione, ottenendo superfici Ra \u22640,05\u03bcm e soddisfacendo gli standard di fabbricazione di chip ad alta frequenza. <\/p>\n
\nA: Gli agglomerati espongono gradualmente nuove superfici diamantate durante l’uso, mantenendo un’efficienza di rettifica costante per oltre 10 ore e riducendo del 30% i tempi di fermo per la sostituzione degli utensili.<\/p>\n
\nR: Conservare in sacchetti di alluminio sottovuoto e resistenti all’umidit\u00e0 a 15\u201325 \u00b0C, < 60% di umidit\u00e0 relativa. Evitare polvere e gas corrosivi. Durata di conservazione: 36 mesi. <\/p>\n