{"id":6066,"date":"2025-10-19T03:14:29","date_gmt":"2025-10-19T03:14:29","guid":{"rendered":"https:\/\/diamondmicron.com\/product\/polvere-di-diamante-sintetico-policristallino-snd-mpl-per-lucidatura-senza-graffi-lappatura-di-vetro-ottico-gemme-e-wafer-semiconduttori\/"},"modified":"2025-12-18T04:15:28","modified_gmt":"2025-12-18T04:15:28","slug":"polvere-di-diamante-sintetico-policristallino-snd-mpl-per-lucidatura-senza-graffi-lappatura-di-vetro-ottico-gemme-e-wafer-semiconduttori","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/diamondmicron.com\/it\/product\/polvere-di-diamante-sintetico-policristallino-snd-mpl-per-lucidatura-senza-graffi-lappatura-di-vetro-ottico-gemme-e-wafer-semiconduttori\/","title":{"rendered":"Polvere di diamante sintetico policristallino SND-MPL – Per lucidatura senza graffi, lappatura di vetro ottico, gemme e wafer semiconduttori"},"content":{"rendered":"
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Polvere di diamante sintetico policristallino SND-MPL: super abrasivo per lucidatura senza graffi e lappatura ad alta precisione<\/strong><\/h2>\n
Introduzione principale<\/strong><\/h3>\n
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Description<\/strong><\/h3>\n
SND-MPL combina la dinamica di taglio multi-tagliente del vero diamante policristallino con la costanza e l’economicit\u00e0 del diamante monocristallino sintetico. Ogni particella micrometrica viene sottoposta a un’incisione chimica controllata, formando da 5 a 8 micro-taglienti disattivati \u200b\u200bche distribuiscono uniformemente la pressione di lucidatura e prevengono la formazione di solchi profondi o graffi superficiali. <\/p>\n
Questa esclusiva morfologia a nido d’ape consente a SND-MPL di rimuovere il materiale in modo delicato ma efficiente, producendo finiture a specchio su ottiche, cristalli di orologi, finestre in zaffiro e superfici di wafer. La sua superficie testurizzata e microruvida (Ra 0,2 \u03bcm) migliora l’adesione su tamponi di lucidatura in resina o a legante vetrificato, riducendo la perdita di grana e prolungando la durata dell’utensile fino al 50%. <\/p>\n
Rispetto alle tradizionali polveri di diamante monocristalline, SND-PL offre una velocit\u00e0 di lucidatura 2\u20134 \u200b\u200bvolte superiore, zero graffi e una resa del materiale superiore, il che lo rende la scelta ideale per applicazioni avanzate di lucidatura e lappatura nei settori dell’ottica, dell’elettronica e del lusso.<\/p>\n
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Vantaggio tecnico e ingegneria<\/strong><\/h3>\n
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Struttura del bordo a nido d’ape: incisa chimicamente per formare 5-8 micro-bordi per grano, distribuendo uniformemente il carico di lucidatura ed eliminando i graffi profondi comuni nei diamanti monocristallini con bordi affilati.<\/li>\n
Ottimizzazione della tenacit\u00e0: il condizionamento termico riduce la microdurezza a HV 6.000\u20136.500, riducendo le scheggiature e migliorando il controllo durante la lucidatura ultrafine.<\/li>\n
Superficie micro-ruvida: la rugosit\u00e0 superficiale progettata di Ra 0,2 \u03bcm garantisce una maggiore ritenzione del legame nei sistemi in resina e vetrificati, riducendo la dispersione di graniglia del 40%.<\/li>\n
Elevata purezza e consistenza: prodotto con una tolleranza PSD ristretta (\u00b15%), che garantisce finiture superficiali stabili nei processi di lucidatura su ampie superfici e di planarizzazione dei wafer.<\/li>\n<\/ul>\n\n
Vantaggi principali<\/strong><\/h3>\n
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Finitura veramente antigraffio: raggiunge Ra \u22640,03\u20130,05\u03bcm su lenti in vetro ottico e zaffiro con riflettivit\u00e0 >95%, senza necessit\u00e0 di lucidatura secondaria.<\/li>\n
Efficienza 2\u20134 \u200b\u200bvolte superiore: la microstruttura multi-bordo accelera la velocit\u00e0 di rimozione preservando l’integrit\u00e0 della superficie, riducendo i tempi di lucidatura fino al 70%.<\/li>\n
Sostituto policristallino conveniente: offre le prestazioni del diamante policristallino a un costo inferiore del 30%, ideale per applicazioni di lucidatura ottica ed elettronica di fascia media.<\/li>\n
Maggiore durata dell’utensile: la migliore legatura della grana prolunga la durata del tampone o della ruota del 40-50%, riducendo i costi operativi per le linee di produzione ad alto volume.<\/li>\n
Compatibilit\u00e0 universale: funziona perfettamente con i tamponi lucidanti con legante in resina, legante vetrificato e rivestimento elettrostatico, adattabili a sistemi di lucidatura manuali o automatici.<\/li>\n<\/ul>\n\n
Applicazioni principali in tutti i settori<\/strong><\/h3>\n
Ottica ed elettronica<\/strong><\/h4>\n
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Lucidatura del vetro ottico: consente di ottenere una nitidezza a specchio (Ra \u22640,03\u03bcm) su obiettivi per fotocamere, ottiche laser, obiettivi AR\/VR e finestre aerospaziali, nel rispetto degli standard ottici EN 12150 (UE) e ANSI Z87.1 (NA).<\/li>\n
Lappatura di wafer semiconduttori: utilizzata per la lucidatura del retro di wafer di silicio e zaffiro, garantendo superfici lisce e prive di difetti per l’incollaggio e il confezionamento dei chip.<\/li>\n
Componenti optoelettronici di precisione: lucidatura di substrati LED in zaffiro, lenti al quarzo ed elementi ottici in ceramica per i settori dei display e dei sensori.<\/li>\n<\/ul>\n
Finiture preziose e di lusso<\/strong><\/h4>\n
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Lucidatura delle pietre preziose: migliora la brillantezza e la purezza di diamanti, rubini, zaffiri e smeraldi, garantendo finiture a specchio antigraffio per gioielli di lusso.<\/li>\n
Metalli per orologi e gioielli: lucida le superfici in oro, platino e metalli rivestiti (casse di orologi svizzeri, accessori per gioielli) senza danneggiare i delicati strati placcati.<\/li>\n
Lucidatura artigianale di alta qualit\u00e0: utilizzata nei laboratori di taglio dei diamanti belgi e dai marchi di lusso svizzeri per ottenere una lucentezza ultra brillante.<\/li>\n<\/ul>\n\n
D1: In che modo SND-MPL previene i graffi rispetto ai tradizionali diamanti micron? \nR: Il suo design a nido d’ape multi-bordo distribuisce uniformemente la pressione, prevenendo le scheggiature tipiche dei diamanti tradizionali. Ci\u00f2 si traduce in una rimozione uniforme del materiale e in una lucidatura senza graffi su superfici ottiche o gemme. <\/p>\n
D2: SND-MPL pu\u00f2 essere utilizzato per la lappatura di wafer semiconduttori? \nR: S\u00ec, il suo intervallo di finezza compreso tra 0,5 e 5 \u03bcm \u00e8 ideale per la lucidatura del retro dei wafer con Ra \u22640,03 \u03bcm. La microstruttura a bassa tenacit\u00e0 evita microfratture nel wafer o contaminazione superficiale. <\/p>\n
D3: Come si comporta l’SND-PL nei tamponi di lucidatura a legante resinoide? \nR: L’eccellente adesione e la bassa dispersione di grana lo rendono perfetto per tamponi in resina o vetrificati, migliorandone la durata fino al 40% e mantenendo una qualit\u00e0 superficiale costante per centinaia di cicli.<\/p>\n
D4: Quali sono le migliori condizioni di conservazione? \nR: Conservare in contenitori sigillati e a prova di umidit\u00e0 a una temperatura compresa tra 15 e 28 \u00b0C, con umidit\u00e0 < 65%. Evitare acidi, solventi o esposizione ai raggi UV per preservare la struttura passivata del bordo fino a 24 mesi. <\/p>\n